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    Extreme ultraviolet resist materials for sub-7 nm patterning.

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    第一作者： Li,Li
    第一单位： Department of Advanced Technology Development, GlobalFoundries, Malta, NY 12020, USA. li.li1@globalfoundries.com.
    作者： Li,Li [1] ; Xuan,Liu ; Shyam,Pal ; Shulan,Wang ; Christopher K,Ober ; Emmanuel P,Giannelis
    作者单位： Department of Advanced Technology Development, GlobalFoundries, Malta, NY 12020, USA. li.li1@globalfoundries.com. [1]
    DOI 10.1039/c7cs00080d
    PMID 28650497
    发布时间 2018-03-06
    提交
    • 浏览6
    Chemical Society reviews

    Chemical Society reviews

    2017年46卷16期

    4855-4866页

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