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首页> ACS applied materials & interfaces> Directed Self-Assembly of Block Copolymers for High Breakdown Strength Polymer Film Capacitors.

Directed Self-Assembly of Block Copolymers for High Breakdown Strength Polymer Film Capacitors.

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第一作者： Saumil P,Samant
第一单位： Department of Polymer Engineering, University of Akron , Akron, Ohio 44325, United States.
作者： Saumil P,Samant [1] ; Christopher A,Grabowski [2] ; Kim,Kisslinger [3] ; Kevin G,Yager [3] ; Guangcui,Yuan [4] ; Sushil K,Satija [4] ; Michael F,Durstock [2] ; Dharmaraj,Raghavan [5] ; Alamgir,Karim [1]
作者单位： Department of Polymer Engineering, University of Akron , Akron, Ohio 44325, United States. [1] Air Force Research Laboratory, Wright Patterson Air Force Base , Dayton, Ohio 45433, United States. [2] Center for Functional Nanomaterials, Brookhaven National Laboratory , Upton, New York 11973, United States. [3] Center for Neutron Research, National Institute of Standards and Technology (NIST) , Gaithersburg, Maryland 20899, United States. [4] Department of Chemistry, Howard University , Washington, D.C. 20059, United States. [5]
关键词 barrier effectblock copolymerbreakdown strengthcapacitorcold zone annealing?soft sheardielectricdirected self-assemblylamellae
DOI 10.1021/acsami.5b11851
PMID 26942835
发布时间 2016-03-30
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ACS applied materials & interfaces

ACS applied materials & interfaces

2016年8卷12期

7966-76页

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