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首页> ACS nano> Metal Sheet of Atomic Thickness Embedded in Silicon.

Metal Sheet of Atomic Thickness Embedded in Silicon.

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第一作者： Leonid V,Bondarenko
第一单位： Institute of Automation and Control Processes FEB RAS, 690041 Vladivostok, Russia.
作者： Leonid V,Bondarenko [1] ; Alexandra Y,Tupchaya [1] ; Yurii E,Vekovshinin [2] ; Dimitry V,Gruznev [1] ; Alexey N,Mihalyuk [2] ; Dmitry A,Olyanich [1] ; Yurii P,Ivanov [3] ; Andrey V,Matetskiy [1] ; Andrey V,Zotov [1] ; Alexander A,Saranin [1]
作者单位： Institute of Automation and Control Processes FEB RAS, 690041 Vladivostok, Russia. [1] Institute of Automation and Control Processes FEB RAS, 690041 Vladivostok, Russia.;School of Natural Sciences, Far Eastern Federal University, 690950 Vladivostok, Russia. [2] Institute of Automation and Control Processes FEB RAS, 690041 Vladivostok, Russia.;School of Natural Sciences, Far Eastern Federal University, 690950 Vladivostok, Russia.;Department of Materials Science and Metallurgy, University of Cambridge, Cambridge CB3 0FS, U.K. [3]
关键词 2D compoundsdelta layernickelsilicontransport measurements
DOI 10.1021/acsnano.1c05669
PMID 34783543
发布时间 2021-12-29
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ACS nano

ACS nano

2021年15卷12期

19357-19363页

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