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首页 > 现代仪器 > 半导体抛光晶片缺陷的光学无损检测研究

半导体抛光晶片缺陷的光学无损检测研究

The Study of Optical Non-Damage In spection of Semiconductor Wafer's Defects

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摘要抛光晶片缺陷检测是半导体材料生产和器件生产中的一个重要环节,晶片质量及器件成品率与缺陷检测的成功与否有着相当重要的关系.本文重点介绍了利用我国古代劳动人民发明的透光镜原理建立的抛光晶片激光无损缺陷检测技术和相应的仪器系统,并对一系列缺陷的测试和实验分析结果进行了相应的讨论.

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作者 冯玢 [1] 王利杰 [1] 学术成果认领
作者单位 信息产业部电子第四十六研究所,天津,300192 [1]
关键词 透光镜抛光晶片缺陷光学无损检测技术表面质量分析系统
医学主题词 半导体(Semiconductors)研究(Research)发明(Inventions)激光(Lasers)
分类号 TH7
栏目名称
研制与开发
DOI 10.3969/j.issn.1672-7916.2001.03.006
发布时间 2004-12-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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现代仪器

现代仪器

2001年3期

15-17页

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