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DB-3型电子束曝光机

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项目年度编号 820624
中图分类号 TN305.7
成果简介 该机主要用于砷化镓FET、表面波、磁泡等细线条器件的高精度分离版制作。它由电子光学系统、激光工作台、控制机等部分组成。电子光学系统得到制版所需的电子束;掩模版的数据输入控制机;通过磁偏转线圈控制电子束扫描完成单元内作图;激光工作台实现单元向高精度步进。该机主要解决了高精度激光定位、提高单元场内扫描速度与精度、电气部件长期稳定性等技术关键。主要技术指标为:最小束斑0.2μm,作版最细条宽0.7μm(1×1mm),数模转换13阶,重复频率400KC,工作面定位精度优于±0.5μm,制版范围50×50mm。它成功地制作出12GC、18GC砷化镓FET器件、16K磁泡、SSBW900MHZ声表面波器件等高精度掩模版,并用这些版制作出高性能器件。
完成人 杨志杰 张俊国 龙步云 包济民 陶一峰 学术成果认领
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