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    首页> Journal of biomedical materials research, Part A> Mechanism of oxide layer growth during annealing of NiTi

    Mechanism of oxide layer growth during annealing of NiTi

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    作者： Undisz,A. [1] ; Schrempel,F. [2] ; Wesch,W. [3] ; Rettenmayr,M.
    作者单位： Institute of Solid State Physics, Friedrich-Schiller-University, Thuringia 07743, Germany [1] Institute of Applied Physics, Friedrich-Schiller-University, Thuringia 07743, Germany [2] Institute of Materials Science and Technology, Friedrich-Schiller-University, Thuringia 07743 [3]
    关键词 ion beam analysisNickel-titanium alloyoxide layer growthshape memorysurface characterization
    发布时间 2013-11-20
    提交
    • 浏览0
    Journal of biomedical materials research, Part A

    Journal of biomedical materials research, Part A

    2012年100A卷7期

    1743-1750页

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