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首页> Journal of synchrotron radiation> A novel application of silicon microstrip technology for energy-dispersive EXAFS studies.

A novel application of silicon microstrip technology for energy-dispersive EXAFS studies.

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第一作者： G,Iles
第一单位： Blackett Laboratory, Imperial College, London SW7 2BZ, UK. gm.iles@ic.ac.uk
作者： G,Iles [1] ; A,Dent ; G,Derbyshire ; R,Farrow ; G,Hall ; G,Noyes ; M,Raymond ; G,Salvini ; P,Seller ; M,Smith ; S,Thomas
作者单位： Blackett Laboratory, Imperial College, London SW7 2BZ, UK. gm.iles@ic.ac.uk [1]
DOI 10.1107/S0909049500005240
PMID 16609199
发布时间 2006-04-12
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Journal of synchrotron radiation

Journal of synchrotron radiation

2000年7卷Pt 4期

221-8页

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