Nanolithography method by using localized surface plasmon mask generated with polydimethylsiloxane soft mold on thin metal film.

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第一作者： Yukun,Zhang

第一单位： State Key Laboratory of Optical Technologies for Microfabrication, Institute of Optics and Electronics, Chinese Academy of Sciences, P.O. Box 350, Chengdu 610209, China.

作者： Yukun,Zhang ^[1] ; Xiaochun,Dong ; Jinglei,Du ; Xingzhan,Wei ; Lifang,Shi ; Qiling,Deng ; Chunlei,Du

作者单位： State Key Laboratory of Optical Technologies for Microfabrication, Institute of Optics and Electronics, Chinese Academy of Sciences, P.O. Box 350, Chengdu 610209, China. ^[1]

DOI 10.1364/OL.35.002143

PMID 20596174

发布时间 2018-10-23

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Optics letters

2010年35卷13期

2143-5页

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