换一批
换一批Antireflection behavior of multidimensional nanostructures patterned using a conformable elastomeric phase mask in a single exposure step.
第一作者：
Junyong,Park
第一单位：
Department of Materials Science and Engineering, Korea Advanced Institute of Science and Technology, Daejeon, Republic of Korea.
作者：
主题词
包被物质, 生物相容性(Coated Materials, Biocompatible);弹性(Elasticity);弹性体(Elastomers);光(Light);材料试验(Materials Testing);显微镜检查, 电子, 扫描(Microscopy, Electron, Scanning);模型, 生物学(Models, Biological);纳米结构(Nanostructures);纳米技术(Nanotechnology);相变(Phase Transition);光化学(Photochemistry);屈光计检查(Refractometry);表面特性(Surface Properties)
DOI
10.1002/smll.201000275
PMID
20715070
发布时间
2010-09-20
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