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    首页> Journal of nanoscience and nanotechnology> Electron beam annealing of Fe+ implanted Si nanostructures.

    Electron beam annealing of Fe+ implanted Si nanostructures.

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    第一作者： A,Markwitz
    第一单位： National Isotope Centre, GNS Science, Lower Hutt 5010, New Zealand.
    作者： A,Markwitz [1] ; F,Fang ; J,Kaiser ; D A,Carder ; J,Kennedy ; U,Zülicke ; P B,Johnson
    作者单位： National Isotope Centre, GNS Science, Lower Hutt 5010, New Zealand. [1]
    DOI 10.1166/jnn.2010.2650
    PMID 21137761
    发布时间 2019-07-15
    提交
    • 浏览20
    Journal of nanoscience and nanotechnology

    Journal of nanoscience and nanotechnology

    2010年10卷10期

    6556-61页

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