更多
通知
医学文献 >>
  • 检索发现
  • 增强检索
知识库 >>
  • 临床诊疗知识库
  • 中医药知识库
评价分析 >>
  • 机构
  • 作者
默认
×
更多
在国内外文献保障系统中检索
高级检索 检索偏好
热搜词：
换一批
  • 二次检索
  • 检索历史
论文 期刊
取消
高级检索

检索历史 清除

首页> Beilstein journal of nanotechnology> Sub-10 nm colloidal lithography for circuit-integrated spin-photo-electronic devices.

Sub-10 nm colloidal lithography for circuit-integrated spin-photo-electronic devices.

导出 LinkOut
翻译 打印 收藏 分享
  • 新浪微博
  • 微信
  • QQ空间
  • 豆瓣
 纠错
广告
第一作者： Adrian,Iovan
第一单位： Nanostructure Physics, Royal Institute of Technology, 10691 Stockholm, Sweden.
作者： Adrian,Iovan [1] ; Marco,Fischer ; Roberto,Lo Conte ; Vladislav,Korenivski
作者单位： Nanostructure Physics, Royal Institute of Technology, 10691 Stockholm, Sweden. [1]
关键词 magnetic point contact arraysspin lasersub-10 nm colloidal lithography
DOI 10.3762/bjnano.3.98
PMID 23365801
发布时间 2021-10-21
提交
  • 浏览1
Beilstein journal of nanotechnology

Beilstein journal of nanotechnology

2012年3卷

884-92页

相似文献

  • 中文期刊
  • 外文期刊
  • 学位论文
  • 会议论文

加载中！

加载中！

加载中！

加载中！

  • 浏览1

相关期刊

加载中！

法律状态公告日 法律状态 法律状态信息

特别提示：本网站仅提供医学学术资源服务，不销售任何药品和器械，有关药品和器械的销售信息，请查阅其他网站。

  • 客服热线：4000-115-888 转3 (周一至周五：8:00至17:00)

  • |

  • 客服邮箱：yiyao@wanfangdata.com.cn

  • 违法和不良信息举报电话：4000-115-888，举报邮箱：problem@wanfangdata.com.cn，举报专区

官方微信
万方医学小程序
new医文AI 翻译 充值 订阅 收藏 移动端

官方微信

万方医学小程序

使用
帮助
Alternate Text
调查问卷