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Line patterns from cylinder-forming photocleavable block copolymers.

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作者： Weiyin,Gu ^[1] ; Hui,Zhao ; Qingshuo,Wei ; E Bryan,Coughlin ; Patrick,Theato ; Thomas P,Russell

作者单位： Department of Polymer Science and Engineering, 120 Governors Drive, University of Massachusetts, Amherst, MA 01003, USA. ^[1]

关键词 block copolymers line patterns nanotemplates photocleavable self-assembly

DOI 10.1002/adma.201301556

PMID 23868791

发布时间 2020-09-30

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Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)

2013年25卷34期

4690-5页

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