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首页> Small (Weinheim an der Bergstrasse, Germany)> Negative-tone block copolymer lithography by in situ surface chemical modification.

Negative-tone block copolymer lithography by in situ surface chemical modification.

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第一作者： Bong Hoon,Kim
第一单位： Center for Nanomaterials and Chemical Reactions, Institute for Basic Science (IBS), Department of Materials Science and Engineering, Korea Advanced Institute of Science and Technology (KAIST), Daejeon, 305-701, Republic of Korea.
作者： Bong Hoon,Kim [1] ; Kyeong-Jae,Byeon ; Ju Young,Kim ; Jinseung,Kim ; Hyeong Min,Jin ; Joong-Yeon,Cho ; Seong-Jun,Jeong ; Jonghwa,Shin ; Heon,Lee ; Sang Ouk,Kim
作者单位： Center for Nanomaterials and Chemical Reactions, Institute for Basic Science (IBS), Department of Materials Science and Engineering, Korea Advanced Institute of Science and Technology (KAIST), Daejeon, 305-701, Republic of Korea. [1]
关键词 block copolymersimprintlithographyself-assembly
DOI 10.1002/smll.201400971
PMID 24912807
发布时间 2014-10-22
提交
  • 浏览21
Small (Weinheim an der Bergstrasse, Germany)

Small (Weinheim an der Bergstrasse, Germany)

2014年10卷20期

4207-12页

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