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    首页> Nanotechnology> High-throughput fabrication of anti-counterfeiting colloid-based photoluminescent microtags using electrical nanoimprint lithography.

    High-throughput fabrication of anti-counterfeiting colloid-based photoluminescent microtags using electrical nanoimprint lithography.

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    作者： R,Diaz [1] ; E,Palleau ; D,Poirot ; N M,Sangeetha ; L,Ressier
    作者单位： Université de Toulouse, LPCNO, INSA-CNRS-UPS, 135 avenue de Rangueil, F-31077 Toulouse, France. [1]
    DOI 10.1088/0957-4484/25/34/345302
    PMID 25091823
    发布时间 2014-08-08
    提交
    • 浏览10
    Nanotechnology

    Nanotechnology

    2014年25卷34期

    345302页

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