Complex Internal Bias Fields in Ferroelectric Hafnium Oxide.

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作者： Tony,Schenk ^[1] ; Michael,Hoffmann ^[1] ; Johannes,Ocker ^[1] ; Milan,Pešić ^[1] ; Thomas,Mikolajick ^[1] ; Uwe,Schroeder ^[2]

作者单位： NaMLab gGmbH , Noethnitzer Strasse 64, D-01187 Dresden, Germany. ^[1] Chair of Nanoelectronic Materials, TU Dresden, D-01062 Dresden, Germany. ^[2]

关键词 electric field cycling behavior ferroelectric first-order reversal curves hafnium oxide internal bias fields

DOI 10.1021/acsami.5b05773

PMID 26308500

发布时间 2015-09-16

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ACS applied materials & interfaces

2015年7卷36期

20224-33页

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