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首页> Microscopy and microanalysis : the official journal of Microscopy Society of America, Microbeam Analysis Society, Microscopical Society of Canada> Quantitative Electron-Excited X-Ray Microanalysis of Borides, Carbides, Nitrides, Oxides, and Fluorides with Scanning Electron Microscopy/Silicon Drift Detector Energy-Dispersive Spectrometry (SEM/SDD-EDS) and NIST DTSA-II.

Quantitative Electron-Excited X-Ray Microanalysis of Borides, Carbides, Nitrides, Oxides, and Fluorides with Scanning Electron Microscopy/Silicon Drift Detector Energy-Dispersive Spectrometry (SEM/SDD-EDS) and NIST DTSA-II.

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第一作者： Dale E,Newbury
第一单位： National Institute of Standards and Technology,Gaithersburg,MD 20899,USA.
作者： Dale E,Newbury [1] ; Nicholas W M,Ritchie [1]
作者单位： National Institute of Standards and Technology,Gaithersburg,MD 20899,USA. [1]
关键词 energy-dispersive X-ray spectrometrylow atomic number elementsquantitative X-ray microanalysisscanning electron microscopy
DOI 10.1017/S1431927615014993
PMID 26365439
发布时间 2015-10-02
提交
  • 浏览50
Microscopy and microanalysis : the official journal of Microscopy Society of America, Microbeam Analysis Society, Microscopical Society of Canada

Microscopy and microanalysis

2015年21卷5期

1327-40页

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