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    首页> Chemical communications (Cambridge, England)> Metal-metal chalcogenide molecular precursors to binary, ternary, and quaternary metal chalcogenide thin films for electronic devices.

    Metal-metal chalcogenide molecular precursors to binary, ternary, and quaternary metal chalcogenide thin films for electronic devices.

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    作者： Ruihong,Zhang [1] ; Seonghyuk,Cho [2] ; Daw Gen,Lim [1] ; Xianyi,Hu [1] ; Eric A,Stach [3] ; Carol A,Handwerker [1] ; Rakesh,Agrawal [2]
    作者单位： School of Materials Engineering, Purdue University, West Lafayette, IN 47907, USA. ruihong.zhang.1@purdue.edu handwerker@purdue.edu. [1] School of Chemical Engineering, Purdue University, West Lafayette, IN 47907, USA. agrawalr@purdue.edu. [2] Center for Functional Nanomaterials, Brookhaven National Laboratory, Upton, NY 11973, USA. estachbnl@gmail.com. [3]
    主题词 硫属元素(Chalcogens);铜(Copper);电子学(Electronics);粒子大小(Particle Size);太阳能(Solar Energy);表面特性(Surface Properties);锡(Tin);锌(Zinc)
    DOI 10.1039/c5cc09915c
    PMID 26981781
    发布时间 2016-12-30
    提交
    • 浏览4
    Chemical communications (Cambridge, England)

    Chemical communications (Cambridge, England)

    2016年52卷28期

    5007-10页

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