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Metasurfaces: Continuous-Gradient Plasmonic Nanostructures Fabricated by Evaporation on a Partially Exposed Rotating Substrate (Adv. Mater. 23/2016).

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第一作者： Robin,Ogier

第一单位： Department of Physics, Chalmers University of Technology, S41296, Gothenburg, Sweden.

作者： Robin,Ogier ^[1] ; Lei,Shao ^[1] ; Mikael,Svedendahl ^[1] ; Mikael,Käll ^[1]

作者单位： Department of Physics, Chalmers University of Technology, S41296, Gothenburg, Sweden. ^[1]

关键词 continuous parameter tuning electron-beam evaporation gradient metasurfaces hole-mask colloidal lithography plasmonic nanostructures

DOI 10.1002/adma.201670163

PMID 27281049

发布时间 2020-10-01

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Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)

2016年28卷23期

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