Chromatic Aberration Correction for Atomic Resolution TEM Imaging from 20 to 80 kV.

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第一作者： Martin,Linck

第一单位： Corrected Electron Optical Systems GmbH, Englerstrasse 28, D-69126 Heidelberg, Germany.

作者： Martin,Linck ^[1] ; Peter,Hartel ^[1] ; Stephan,Uhlemann ^[1] ; Frank,Kahl ^[1] ; Heiko,Müller ^[1] ; Joachim,Zach ^[1] ; Max,Haider ^[1] ; Marcel,Niestadt ^[2] ; Maarten,Bischoff ^[2] ; Johannes,Biskupek ^[3] ; Zhongbo,Lee ^[3] ; Tibor,Lehnert ^[3] ; Felix,Börrnert ^[3] ; Harald,Rose ^[3] ; Ute,Kaiser ^[3]

作者单位： Corrected Electron Optical Systems GmbH, Englerstrasse 28, D-69126 Heidelberg, Germany. ^[1] FEI Company, Achtseweg Noord 5, 5651 GG Eindhoven, Netherlands. ^[2] Central facility of electron microscopy, Ulm University, Albert-Einstein-Allee 11, D-89081 Ulm, Germany. ^[3]

DOI 10.1103/PhysRevLett.117.076101

PMID 27563976

发布时间 2018-01-24

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2016年117卷7期

076101页

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