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    首页> Scientific reports> Nanoscale self-templating for oxide epitaxy with large symmetry mismatch.

    Nanoscale self-templating for oxide epitaxy with large symmetry mismatch.

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    作者： Xiang,Gao [1] ; Shinbuhm,Lee [1] ; John,Nichols [1] ; Tricia L,Meyer [1] ; Thomas Z,Ward [1] ; Matthew F,Chisholm [1] ; Ho Nyung,Lee [1]
    作者单位： Materials Science and Technology Division, Oak Ridge National Laboratory, Oak Ridge, TN 37831, USA. [1]
    DOI 10.1038/srep38168
    PMID 27909313
    发布时间 2018-11-13
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