Resist-free antireflective nanostructured film fabricated by thermal-NIL.

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作者： Young Hun,Kang ^[1] ; Jae Hyung,Han ^[2] ; Song Yun,Cho ^[1] ; Choon-Gi,Choi ^[2]

作者单位： Division of Advanced Materials, Korea Research Institute of Chemical Technology, Daejeon, 305-600 Korea. ^[1] Creative Research Center for Graphene Electronics, Electronics and Telecommunications Research Institute (ETRI), Daejeon, 305-700 Korea. ^[2]

关键词 Anodic aluminum oxide template Antireflective films Moth-eye Nanostructures Oxygen reactive ion etching Thermal nano-imprint lithography

DOI 10.1186/s40580-014-0019-1

PMID 28191399

发布时间 2020-09-30

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Nano convergence

2014年1卷1期

19页

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