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首页> Chemistry (Weinheim an der Bergstrasse, Germany)> Unearthing [3-(Dimethylamino)propyl]aluminium(III) Complexes as Novel Atomic Layer Deposition (ALD) Precursors for Al<sub>2</sub> O<sub>3</sub> : Synthesis, Characterization and ALD Process Development.

Unearthing [3-(Dimethylamino)propyl]aluminium(III) Complexes as Novel Atomic Layer Deposition (ALD) Precursors for Al<sub>2</sub> O<sub>3</sub> : Synthesis, Characterization and ALD Process Development.

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作者： Lukas,Mai ^[1] ; Maximilian,Gebhard ^[1] ; Teresa,de Los Arcos ^[2] ; Ignacio,Giner ^[2] ; Felix,Mitschker ^[3] ; Manuela,Winter ^[1] ; Harish,Parala ^[1] ; Peter,Awakowicz ^[3] ; Guido,Grundmeier ^[2] ; Anjana,Devi ^[1]

作者单位： Inorganic Materials Chemistry, Ruhr-University Bochum, Universitätsstraße 150, 44801, Bochum, Germany. ^[1] Macromolecular and Technical Chemistry, University of Paderborn, Warburger Straße 100, 33098, Paderborn, Germany. ^[2] Institute of Electrical Engineering and Plasma Technology, Ruhr-University Bochum, 44801, Bochum, Germany. ^[3]

关键词 aluminium atomic layer deposition gas barrier layers precursor chemistry thin films

DOI 10.1002/chem.201702939

PMID 28665519

发布时间 2018-01-16

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Chemistry (Weinheim an der Bergstrasse, Germany)

Chemistry (Weinheim an der Bergstrasse, Germany)

2017年23卷45期

10768-10772页

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