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首页> Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids> On the Mechanism of In Nanoparticle Formation by Exposing ITO Thin Films to Hydrogen Plasmas.

On the Mechanism of In Nanoparticle Formation by Exposing ITO Thin Films to Hydrogen Plasmas.

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第一作者： Zheng,Fan
第一单位： LPICM, CNRS, Ecole Polytechnique, Université Paris-Saclay , 91128 Palaiseau, France.
作者： Zheng,Fan [1] ; Jean-Luc,Maurice [1] ; Wanghua,Chen [1] ; Stéphane,Guilet [2] ; Edmond,Cambril [2] ; Xavier,Lafosse [2] ; Laurent,Couraud [2] ; Kamel,Merghem [2] ; Linwei,Yu [3] ; Sophie,Bouchoule [2] ; Pere,Roca I Cabarrocas [1]
作者单位： LPICM, CNRS, Ecole Polytechnique, Université Paris-Saclay , 91128 Palaiseau, France. [1] Centre de Nanosciences et de Nanotechnologies, CNRS, Université Paris-Sud, Université Paris-Saclay , C2N-Marcoussis, 91460 Marcoussis, France. [2] LPICM, CNRS, Ecole Polytechnique, Université Paris-Saclay , 91128 Palaiseau, France.;School of Electronic Science and Engineering, Nanjing University , 210096 Nanjing, China. [3]
DOI 10.1021/acs.langmuir.7b01743
PMID 28954510
发布时间 2018-07-31
提交
  • 浏览21
Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids

Langmuir

2017年33卷43期

12114-12119页

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