Plasmonic Structures, Materials and Lenses for Optical Lithography beyond the Diffraction Limit: A Review.
第一作者:
Changtao,Wang
第一单位:
State Key Laboratory of Optical Technologies on Nano-fabrication and Micro-engineering, Institute of Optics and Electronics, Chinese Academy of Sciences, Chengdu 610209, China. wangct@ioe.ac.cn.
作者:
DOI
10.3390/mi7070118
PMID
30404291
发布时间
2020-09-30
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Micromachines
2016年7卷7期
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