换一批
换一批Effect of Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub> Seed-Layer on the Dielectric and Electrical Properties of Ultrathin MgO Films Fabricated Using <i>In Situ</i> Atomic Layer Deposition.
第一作者：
Jagaran,Acharya
第一单位：
Department of Physics and Astronomy , University of Kansas , Lawrence , Kansas 66045 , United States.
作者：
DOI
10.1021/acsami.9b05601
PMID
31356739
发布时间
2019-08-23
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ACS applied materials & interfaces
30368-30375页
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