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首页> ACS applied materials & interfaces> Maxwell-Wagner Relaxation-Driven High Dielectric Constant in Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/TiO<sub>2</sub> Nanolaminates Grown by Pulsed Laser Deposition.

Maxwell-Wagner Relaxation-Driven High Dielectric Constant in Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/TiO<sub>2</sub> Nanolaminates Grown by Pulsed Laser Deposition.

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作者： Partha Sarathi,Padhi ^[1] ; Sanjay Kumar,Rai ^[2] ; Himanshu,Srivastava ^[3] ; Rohini Sreedharan,Ajimsha ^[3] ; Arvind Kumar,Srivastava ^[1] ; Pankaj,Misra ^[2]

作者单位： Oxide Nano Electronics Lab., Laser Material Processing Division, Raja Ramanna Centre for Advanced Technology, Indore 452013, India. ^[1] Homi Bhabha National Institute, Training School Complex, Anushakti Nagar, Mumbai 400094, India. ^[2] Synchrotrons Utilization Section, Raja Ramanna Centre for Advanced Technology, Indore 452013, India. ^[3]

关键词 cut-off frequency high dielectric constant impedance spectroscopy low dielectric loss nanolaminates

DOI 10.1021/acsami.1c25028

PMID 35239317

发布时间 2022-03-16

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2022年14卷10期

12873-12882页

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