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    首页> ACS macro letters> Correction to Photocleavable Triblock Copolymers Featuring an Activated Ester Middle Block: "One-Step" Synthesis and Application as Locally Reactive Nanoporous Thin Films.

    Correction to Photocleavable Triblock Copolymers Featuring an Activated Ester Middle Block: "One-Step" Synthesis and Application as Locally Reactive Nanoporous Thin Films.

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    作者： Hui,Zhao ; Weiyin,Gu ; Ryohei,Kakuchi ; Zhiwei,Sun ; Elizabeth,Sterner ; Thomas P,Russell ; E Bryan,Coughlin ; Patrick,Theato
    DOI 10.1021/mz400632f
    PMID 35590508
    发布时间 2022-05-20
    提交
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    ACS macro letters

    ACS macro letters

    2014年3卷2期

    204页

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