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Fabrication of ultra-high aspect ratio silicon grating using an alignment method based on a scanning beam interference lithography system.

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作者： Xingshuo,Chen ; Shan,Jiang ; Yubo,Li ; Yanxiu,Jiang ; Wei,Wang ; Bayanheshig

DOI 10.1364/OE.469374

PMID 36299010

发布时间 2022-10-27

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Optics express

2022年30卷22期

40842-40853页

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