Selective Removal of Gold: N-Heterocyclic Carbenes as Positive Etch Resists on Planar Gold Surfaces.

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第一作者： Florian,Bosse

第一单位： Organisch-Chemisches Institut and Center for Soft Nanoscience Westfälische Wilhelms-Universität Münster Corrensstraße 36, 48149 Münster, Germany.

作者： Florian,Bosse ^[1] ; Christian,Gutheil ^[1] ; D Thao,Nguyen ^[1] ; Matthias,Freitag ^[1] ; Mowpriya,Das ^[1] ; Bonnie J,Tyler ^[2] ; Thorsten,Adolphs ^[2] ; Andreas H,Schäfer ^[3] ; Heinrich F,Arlinghaus ^[2] ; Frank,Glorius ^[1] ; Bart Jan,Ravoo ^[1]

作者单位： Organisch-Chemisches Institut and Center for Soft Nanoscience Westfälische Wilhelms-Universität Münster Corrensstraße 36, 48149 Münster, Germany. ^[1] Physikalisches Institut and Center for Soft Nanoscience Westfälische Wilhelms-Universität Münster Wilhelm-Klemm-Straße 10, 48149 Münster, Germany. ^[2] nanoAnalytics GmbH Heisenbergstraße 11, 48149 Münster, Germany. ^[3]

关键词 N-heterocyclic carbenes microcontact printing nanotechnology self-assembly wet etching

DOI 10.1021/acsami.3c01046

PMID 37477567

发布时间 2023-08-03

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