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Pulsed processing by cold plasma, applied to industrial emission control.

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第一作者： E J M,Van Heesch

第一单位： Electrical Engineering Department, Eindhoven University of Technology, Eindhoven, Netherlands.

作者： E J M,Van Heesch ^[1] ; T,Huiskamp ^[1] ; K,Yan ^[2] ; F J C M,Beckers ^[1] ; H W M,Smulders ^[1] ; G J J,Winands ^[1] ; R H P,Lemmens ^[1] ; P P M,Blom ^[1] ; S Davalos,Segura ^[1] ; W F L M,Hoeben ^[1] ; S V B,Van Paasen ^[1] ; J J,Van Oorschot ^[1] ; A G A,Bonkestoter ^[3] ; M L J,Van Den Brand ^[4] ; M,Hennink ^[4] ; R W J,Smulders ^[5] ; A J M,Pemen ^[1] ; P C T,Van Der Laan ^[1]

作者单位： Electrical Engineering Department, Eindhoven University of Technology, Eindhoven, Netherlands. ^[1] Electrical Engineering Department, Eindhoven University of Technology, Eindhoven, Netherlands.;Institute of Industrial Ecology and Environment, Zhejiang University, Hangzhou, China. ^[2] Solybright BV, Heesch, Netherlands. ^[3] HMVT, Ede, Netherlands. ^[4] Antea Group, Oosterhout, Netherlands. ^[5]

关键词 Lambert function VOC cold plasma emission control nanosecond pulses plasma processing pulsed processing

DOI 10.3389/fchem.2024.1386055

PMID 38911992

发布时间 2024-06-25

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Frontiers in chemistry

2024年12卷

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