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首页> ACS applied materials & interfaces> Nitrogen Doping Strategy in SiO<sub>2</sub> Insulators for Stable and Hydrogen-Resistant ALD-IGZO TFTs.

Nitrogen Doping Strategy in SiO<sub>2</sub> Insulators for Stable and Hydrogen-Resistant ALD-IGZO TFTs.

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第一作者： Tae Heon,Kim
第一单位： Division of Materials Science and Engineering, Hanyang University, 222, Wangsimni-ro, Seongdong-gu, Seoul, 04763, Republic of Korea.
作者： Tae Heon,Kim [1] ; Dong-Gyu,Kim [1] ; Sang-Hyun,Kim [2] ; Tae-Kyung,Kim [1] ; Ki-Cheol,Song [3] ; Yeonhee,Lee [4] ; Jin-Seong,Park [1]
作者单位： Division of Materials Science and Engineering, Hanyang University, 222, Wangsimni-ro, Seongdong-gu, Seoul, 04763, Republic of Korea. [1] Department of Display Science and Engineering, Hanyang University, 222 Wangsimni-ro, Seongdong-gu, Seoul 04763, Republic of Korea. [2] Division of Materials Science and Engineering, Hanyang University, 222, Wangsimni-ro, Seongdong-gu, Seoul, 04763, Republic of Korea.;Advanced Analysis Center, Korea Institute of Science and Technology (KIST), 5, Hwarang-ro, Seongbukgu, Seoul 02792, Republic of Korea. [3] Advanced Analysis Center, Korea Institute of Science and Technology (KIST), 5, Hwarang-ro, Seongbukgu, Seoul 02792, Republic of Korea. [4]
关键词 Hydrogen-ResistanceIGZON2O Plasma ReactantNitrogen DopingPlasma-enhanced Atomic Layer DepositionThin Film Transistor
DOI 10.1021/acsami.4c22748
PMID 40111151
发布时间 2025-03-20
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