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首页> Scientific reports> Nanofabrication of all-dielectric metasurfaces through pulsed thermal scanning probe lithography.

Nanofabrication of all-dielectric metasurfaces through pulsed thermal scanning probe lithography.

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第一作者： Paloma E S,Pellegrini
第一单位： Center for Semiconductor Components and Nanotechnology, Universidade Estadual de Campinas, Campinas, 13083-870, Brazil. palomap@unicamp.br.
作者： Paloma E S,Pellegrini [1] ; Luana,De-Moraes [2] ; Freddy Jara,Poma [2] ; Silvia Vaz Guerra,Nista [3] ; Frederico H,Cioldin [3] ; Hugo Enrique,Hernández-Figueroa [2] ; Stanislav,Moshkalev [3]
作者单位： Center for Semiconductor Components and Nanotechnology, Universidade Estadual de Campinas, Campinas, 13083-870, Brazil. palomap@unicamp.br. [1] School of Electrical and Computer Engineering, Universidade Estadual de Campinas, Campinas, 13083-852, Brazil. [2] Center for Semiconductor Components and Nanotechnology, Universidade Estadual de Campinas, Campinas, 13083-870, Brazil. [3]
关键词 All-dielectric metasurfacesCharge dissipation-FreeInsulating substratesNanofabricationThermal scanning probe lithography
DOI 10.1038/s41598-025-07428-1
PMID 40604078
发布时间 2025-07-03
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Scientific reports

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2025年15卷1期

23469页

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