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Impact of Phase Defects on the Aerial Image in High NA Extreme Ultraviolet Lithography.

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第一作者： Kun,He

第一单位： School of Electronic Information and Electrical Engineering, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai 200240, China.

作者： Kun,He ^[1] ; Zhinan,Zeng ^[2]

作者单位： School of Electronic Information and Electrical Engineering, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai 200240, China. ^[1] Zhangjiang Laboratory, Shanghai 201210, China. ^[2]

关键词 EUV mask aerial images high NA phase defect shadow effect

DOI 10.3390/mi16111210

PMID 41302729

发布时间 2025-11-30

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