换一批透射式微焦点X射线源钨-金刚石靶材的制备及其性能研究
Research on the Preparation and Performance of Tungsten-diamond Transmission Target for Microfoucs X-ray Source
摘要本文采用磁控溅射镀膜技术制备了钨-金刚石透射靶材,借助电子扫描电镜对靶材的钨薄膜进行微观形貌分析.同时借助YXLON光机,研究自制靶材在X射线出射率及其产生X射线所需消耗功率和寿命等性能,并与YXLON原带靶材进行性能比较.研究表明,采用磁控溅射制备的钨薄膜与YXLON靶材上的钨薄膜具有相似的表面形貌;在YXLON光机相同工作条件下,自制靶材的X射线出射率略高于YXLON原带靶材的X射线出射率的1%,二者辐射X射线所需的功率相差无几,自制靶材的寿命要长于YXLON靶材的.这表明自制钨-金刚石靶材能够满足微焦点射线源所需的高质量靶材的应用要求.
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关键词
显微计算机断层成像磁控溅射钨-金刚石透射靶材micro-computed tomographymagnetron sputteringtungsten-diamond transmission targets
分类号
TP391.41
栏目名称
DOI
10.15953/j.1004-4140.2017.26.02.07
发布时间
2017-04-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
基金项目
中国科学院科研装备研制项目（(YZ201410)）
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