换一批电镀铂/金的金电极上As(Ⅲ)电化学行为的电化学石英晶体微天平研究
An Eletrochemical Quatrz Crystal Microbalance Study on Electrochemical Behavior of As(Ⅲ)at Au/Au and Pt/Au Electrodes
摘要采用电化学石英晶体微天平(EQCM)技术研究了Britton-Robinson(B-R,pH=1.8～11.2)缓冲溶液和H2SO4介质中电镀铂淦的金电极上As(Ⅲ)的循环伏安行为.通过实时监测EQCM频率等参数的变化过程并利用预电沉积As(O)放大电极响应信号,考察了两电极上As.(O)的电沉积、AsⅢ皿和AsⅤ助组分的吸附特性以及As组分电化学行为的pH依赖性.主要结论如下:(I)As(O在两电极表面均可电沉积,但在镀铂金电极上更明显,且足量电沉积的As(0)的电氧化过程出现外/内层As(0)依次氧化的两个电流峰;(2)As(Ⅲ)在镀铂电极上可强烈吸附,且被氧化成As(Ⅴ)时解吸,而镀金电极上As(Ⅲ)和As(Ⅴ)的吸附能力均很弱;(3)在pH=1.8的B-R缓冲溶液和0.1 mol/L H2SO4介质中,镀铂/金电极上As(Ⅲ)的电催化氧化电流趋于最大.通过As(Ⅲ)在镀铂/金电极上的吸附预富集和随后的电催化氧化溶出,提出了高敏检测As(Ⅲ)的线性扫描伏安法,检测灵敏度提高约40倍.
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