换一批CO 2气体反应磁控溅射制备Ti-O 薄膜成分和结构研究
On study of composition and structure of Ti-O film prepared by reactive magnetron sputtering using CO2
摘要室温下采用反应磁控溅射的方法，利用 CO2作碳源和氧源制备了碳掺杂 Ti-O 薄膜。X 射线衍射(XRD)、光射线电子能谱(XPS)和拉曼光谱用于表征薄膜的成分和结构。采用紫外-可见(UV-Vis)分光光度计测量了薄膜的吸光度并通过作图计算得到其带隙宽度。结果表明，用 CO2作碳源和氧源，可得到 C 掺杂的Ti-O 薄膜。当掺杂碳时，钛氧膜中金红石相特征峰显著减弱，且碳以取代 O 原子的形式掺杂在薄膜中并促使 TiO 相的出现。当反应气体为 CO2和 O2共存时，钛原子优先与氧原子结合并抑制 TiO 相的形成。碳的掺入能有效降低 TiO2带隙宽度，使薄膜的吸收边扩展到可见光区，提高对可见光的吸收。
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