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首页 > 河北大学学报（自然科学版） > 氮化温度对ZnO薄膜结构特性的影响

氮化温度对ZnO薄膜结构特性的影响

Influence of Nitridation Temperature on the Microstructure of ZnO Films

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摘要采用螺旋波等离子体辅助射频磁控溅射技术,在蓝宝石(001)衬底上制备不同氮化温度的ZnO薄膜.结果表明,在200～600 ℃内, 不同的氮化温度对薄膜的表面形貌和晶格结构有显著影响.

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作者 张丽 [1] 于威 [1] 许贺菊 [2] 张锦川 [1] 傅广生 [1] 学术成果认领
作者单位 河北大学,物理科学与技术学院,河北,保定,071002 [1] 华北煤炭医学院,基础部,河北,唐山,063000 [2]
关键词 ZnO薄膜氮化温度晶格结构
分类号 O484.5
栏目名称
研究报告
DOI 10.3969/j.issn.1000-1565.2009.02.011
发布时间 2009-06-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
基金项目
河北省自然科学基金（E2006001006）
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河北大学学报（自然科学版）

河北大学学报（自然科学版）

2009年29卷2期

150-152页

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