4He和12C离子Rutherford背散射的Geant4模拟
Geant4-Based Simulation of 4 He and 12C Ions Rutherford Backscattering on Thin Films
摘要利用Geant4程序模拟270,500 keV 4 He和12C离子垂直入射Au,Ag,Cu薄膜上的Rutherford背散射谱(RBS),并讨论材料、厚度和入射离子能量对背散射谱的影响.结果表明,能量较大的12C离子具有较好的质量分辨率.
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