换一批RF磁控溅射制备TiO2薄膜及其性能讨论
Discussion on preparation and characteristics of titanium dioxide thin films by RF magnetron sputtering
摘要用RF磁控溅射法制备了TiO2薄膜,考察了工作压强、靶与基片距离对薄膜沉积速率、均匀性的影响以及靶材料、基片及退火温度对薄膜晶体结构的影响. 获得的TiO2薄膜在很宽的温度范围(400～900℃)内保持锐钛矿型晶体结构.
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DOI
10.3969/j.issn.1000-9965.2004.03.008
发布时间
2004-07-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
基金项目
国家自然科学基金（20171018）
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