摘要[目的]观察亚砷酸钠(NaAsO2)对人永生化皮肤角质形成细胞(HaCaT细胞)DNA双链断裂损伤、组蛋白H4第20位赖氨酸一、二甲基化(H4K20me1、H4K20me2)修饰水平的影响,探讨H4K20me1、H4K20me2修饰在砷致DNA双键断裂损伤中的作用.[方法]体外常规培养HaCaT细胞,以0.00、1.25、2.50、5.00、10.00 μmol/L NaAsO2连续处理HaCaT细胞24h,10.00 μmol/LNaAsO2处理HaCaT细胞0、6、12、24h,其中以0.00 μmol/L浓度组和0h为空白对照组.采用中性单细胞凝胶电泳法检测各组HaCaT细胞DNA双链断裂损伤水平(尾部DNA百分含量、Olive尾矩);免疫印迹法检测各组H4K20me1、H4K20me2蛋白表达水平.[结果] HaCaT细胞染砷24h后,DNA双链断裂程度在5.00、10.00 μmol/L浓度组高于对照组(P＜0.05);H4K20me1/me2蛋白表达水平在2.50、5.00、10.00 μmol/L浓度组低于对照组(P＜0.05).10.00 μmol/LNaAsO2处理HaCaT细胞0、6、12和24h后,DNA双链断裂程度在12、24h染砷组高于对照组(P＜0.05),H4K20me1、H4K20me2蛋白表达水平在6、12、24h较对照组降低(P＜0.05).尾部DNA百分含量与H4K20me1、H4K20me2修饰水平呈负相关(r=-0.955、-0.855,均P＜0.05),Olive尾矩与二者亦呈负相关(r=-0.940、-0.841,均P＜0.05).[结论]砷可导致HaCaT细胞DNA双键断裂损伤和H4K20me1、H4K20me2表达改变,提示砷所致DNA损伤可能与组蛋白H4K20甲基化修饰有关.