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闪光照相中MeV级网栅的设计

Design of MeV anti-scatter grid in flash radiography

摘要通过理论分析,确定了MeV级多孔网栅的设计目标、拟采用的照相布局及图像接收系统.在此基础上,通过蒙特卡罗模拟和理论分析,确定了网栅的主要参数,包括网栅厚度、孔径与孔间距和W薄片厚度,并研究了加工误差和非理想照相因素对网栅性能的影响,最后给出了原理样机的设计参数.针对原理样机开展了数值模拟,利用模拟图像进行了网栅图像修补与插值等图像预处理工作,初步验证了原理样机在实际应用中的可行性.

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分类号 R814.3O434.1
栏目名称 高功率激光与光学
DOI 10.3788/HPLPB20112308.2047
发布时间 2012-01-15
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