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响应面法优化富铬灵芝发酵培养基

Optimization of Fermentation Medium for Chromium-enriched Ganoderma lucidum by Response Surface Methodology

摘要通过单因素试验确定富铬灵芝发酵培养基中CrCl3·6H2O添加量的适宜范围,并由Plackett-Burman设计筛选出对灵芝菌体铬总含量影响显著的3种培养基组分:CrCl3·6H2O、黄豆饼粉和玉米粉.继而采用最陡爬坡试验逼近最大响应区域后,通过中心组合设计的响应面试验建立以铬总含量为响应值的二次回归模型,最终得到最优发酵培养基组成为:CrCl3·6H2O 250.5mg/L、黄豆饼粉13.07g/L、玉米粉27.35g/L、蔗糖18g/L、VB1 0.012g/L、NH4Cl1.6g/L、MgSO4·7H2O 0.8g/L、KH2PO40.8g/L,在此条件下测得铬总含量为1525.92μg/L,与预测值1530.21μg/L非常接近,说明预测模型适用、可靠,可应用于富铬灵芝发酵培养基的优化.

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