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硼掺杂金刚石薄膜电极上水杨酸的电化学行为

Electrochemical behavior of salicylic acid at boron-doped diamond electrode

摘要硼掺杂金刚石(BDD)薄膜电极是用于电化学分析中的理想电极材料。以水杨酸(SA)为目标物,利用循环伏安法( CV)和电化学阻抗谱( EIS)对BDD电极上SA的电化学行为进行了研究。结果发现,SA的电化学过程有两个氧化峰,没有还原峰,氧化还原反应为不可逆反应。在低电势下出现的氧化峰电流正比于扫描速率的平方根,具有良好的线性关系,表明不可逆的氧化反应过程中扩散步骤为反应的控制步骤。电极/溶液界面的结构可以用R(QR)的等效电路拟合,当电极电位从开路电位(OCP)提高到2.5 V时,电荷转移电阻Rct从5.137×105Ω· cm2降低到4.171×102Ω· cm2,说明电极电位的增加能够加快氧化反应的进行,可以提高电催化反应速率大小。

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