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ZnO外延薄膜的制备及孪晶的形成

Epitaxial Growth of ZnO Films and the Form of the Twin Domains

摘要采用螺旋波等离子体辅助溅射沉积法在衬底Al2O3的(0001)面上沉积ZnO薄膜,所生长的薄膜在未退火和退火时表现出不同的平面内取向.未退火时薄膜表现出较好的单筹异质外延生长,而退火后薄膜的Φ扫描图像中出现了12个峰,这表明退火后薄膜出现反相筹,表现为孪晶生长.重点分析了退火对螺旋波等离子体辅助溅射技术外延ZnO薄膜的结构及表面形貌的影响规律,为外延ZnO薄膜质量的提高及该技术应用的探索奠定基础.

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分类号 O484.1
栏目名称
DOI 10.3969/j.issn.1009-9115.2009.02.017
发布时间 2009-05-19(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
基金项目
河北省自然科学基金(E2006001006)
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