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高硅SSZ-13分子筛膜二次水热生长过程

Hydrothermal Secondary Growth Process of High-Slica SSZ-13 Zeolite Membrane

摘要采用稀释模板剂合成溶胶在管状莫来石支撑体上制备高硅SSZ-13分子筛膜以研究膜的二次水热生长过程.对433 K下二次生长2~72 h的膜和底料进行表征,XRD表明膜和底料中的SSZ-13特征峰均在6h后出现.底料中的晶粒尺寸基本不随晶化时间的延长而变化.在298 K和0.4 MPa测试条件下,433 K晶化72 h的SSZ-13分子筛膜CO2渗透通量为2.08x10-7 mol·m-2· S-1· pa-1,CO2/CH4理想选择性为24.探讨了SSZ-13分子筛膜的生长过程:涂覆在支撑体上的晶种首先溶解并形成大量有序的结构单元,诱导溶胶中晶粒形成并快速生长,晶粒沉积在支撑体的表面共生形成无缺陷的膜层.

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分类号 O611.4O613.72
栏目名称 论文
DOI 10.11862/CJIC.2020.140
发布时间 2020-08-13
基金项目
国家自然科学基金 国家国际科技合作专项 江西省自然科学基金 We gratefully acknowledge the financial support of this work from National Natural Science Foundation of China International Science,Technology Cooperation Program of China Jiangxi Provincial Department of Science and Technology
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