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中空介孔纳米二氧化硅的合成与表征

Synthesis and Characterization of Hollow Mesoporous Nano-SiO2

摘要采用乳液聚合法,通过改变聚乙烯吡咯烷酮(PVP)用量,控制苯乙烯(St)聚合,制备不同粒径的聚苯乙烯(PS),然后以之为基体,通过与正硅酸乙酯(TEOS)脱水缩合,使TEOS中的二氧化硅包覆在基体上获得核壳粒子,随后用四氢呋喃(THF)和丙酮处理核壳粒子来获得中空介孔纳米二氧化硅.实验结果表明:加入PVP可以降低PS基体粒径,当PVP用量达到12 g时,基体粒径减小至60 nm;继续加大PVP用量,基体粒径变化不大.当TEOS和氨水最佳浓度分别为0. 05 mol/L和0. 3 mol/L时,HM-SiO2粒径为96. 5 nm.利用红外光谱分析仪对St、SiO2及HM-SiO2的结构进行表征,结果表明SiO2已经覆盖到PS表面.通过对PS及HM-SiO2扫描电镜图分析可知:PS颗粒粒径均小于100 nm,并且分布均匀;合成的HM-SiO2具有中空介孔结构,且中径为100 nm.

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分类号 TB321
栏目名称
DOI 10.3969/j.issn.1674-3326.2018.03.004
发布时间 2018-08-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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