牙根进入上颌窦深度对正畸支抗的影响:一项三维有限元研究
Effect of root depth into maxillary sinus on orthodontic resistance:a three-dimensional finite element study
摘要目的 探讨上颌第一磨牙牙根进入上颌窦不同深度时,牙齿及周围组织在正畸力作用下的生物力学变化,为临床支抗设计提供参考.方法 基于锥形束计算机断层扫描(CBCT)数据建立上颌窦、上颌第一磨牙及周围组织的三维有限元模型,模拟牙根进入上颌窦的7种深度(模型1:未进入;模型2:抵住窦底骨皮质;模型3~7分别为:腭根进入上颌窦1.5 mm、3.0 mm、4.0 mm、5.0 mm、6.5 mm,模型1为对照).采用ANSYS软件施加1N、1.5N、2N正畸力(水平向近中及垂直向根尖方向),分析42种工况下的应力分布及牙齿位移.结果 ①牙根抵住窦底骨皮质时,牙齿微动度及周围组织应力显著降低,窦底骨皮质应力增加;②随牙根进入深度增加,牙齿及周围组织应力、微动度逐渐增大,进入1.5 mm后超过对照组并趋于稳定.结论 上颌磨牙牙根进入上颌窦的深度与支抗密切相关:牙根抵住窦底骨皮质时支抗最佳;当牙根进入上颌窦1.5 mm后,支抗弱于对照组(牙根未进入上颌窦),且随进入深度增加(1.5~6.5 mm)支抗持续减弱并趋于稳定,牙齿移动更容易.本研究为涉及上颌窦区域的正畸治疗提供生物力学依据.
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