摘要目的:观察 Runx2和 Osx 在牙髓损伤后表达模式的变化。方法:取雄性 SD 大鼠24只随机抽取4只不作任何处理,用于正常对照;其余20只分别以双侧下颌第一磨牙为对象建立牙髓损伤模型。分别于建模后0、3、12 h 和3、7 d 各时间点从牙髓损伤组中各随机抽取4只大鼠,并取其双侧下颌第一磨牙标本制作组织切片;然后采用 HE 染色法观察各组修复性牙本质的形成情况,并采用免疫荧光染色法检测 Runx2、Osx、DSPP 的表达模式。结果:HE 染色显示,损伤后7 d,在损伤下方可见明显的修复性牙本质形成。免疫荧光染色显示,Runx2、Osx 和 DSPP 主要表达于损伤下方,其中 Runx2的表达呈“抛物线”趋势,即损伤后3 d 时表达最为强烈(P <0.05),此后逐渐下降;Osx 和 DSPP 的表达均呈逐渐上调的趋势,Osx 的表达在损伤后7 d 时上调最为明显(P <0.05),而 DSPP 的表达则在损伤后3 d 时即显著增强并持续至损伤后7 d(P <0.05)。结论:Runx2、Osx 和 DSPP 在牙髓损伤后的不同时期具有不同的表达模式。
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