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    首页 > 药学实践杂志 > 褶合光谱模式识别系统对样品中杂质检查能力的考察

    褶合光谱模式识别系统对样品中杂质检查能力的考察

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    摘要目的:研究褶合光谱模式识别系统杂质检查能力.方法:采用高斯函数模拟样品和杂质的吸收光谱,求出各杂质在主成分存在下的检测限.结果:得出了杂质检测限随物质相关性变化的分布趋势.结论:褶合光谱模式识别系统是一种高分辨率的杂质检查手段.

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    作者 周丽芳 [1] 朱臻宇 [2] 吴玉田 [2] 柴逸峰 [2] 曹颖瑛 [2] 学术成果认领
    作者单位 中国人民解放军第95医院药械科,福建,莆田,351100 [1] 第二军医大学药学院,上海,200433 [2]
    关键词 褶合光谱模式识别杂质检查高斯函数
    主题词 才能(Aptitude)检测限(Limit of Detection)目的(Goals)研究(Research)方法(Methods)
    分类号 R917
    栏目名称 论著
    DOI 10.3969/j.issn.1006-0111.2003.06.005
    发布时间 2004-04-02
    • 浏览81
    • 被引0
    • 下载4
    药学实践杂志

    药学实践杂志

    2003年21卷6期

    336-337页

    ISTIC

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