氧氟沙星在Pt/GC离子注入修饰电极上的电化学行为及其应用
ELECTROCHEMICAL BEHAVIOR OF OFLOXACIN AT Pt/GC ION IMPLANTATION MODIFIED ELECTRODE AND ITS APPLICATION
摘要目的 研究氧氟沙星在Pt/GC离子注入修饰电极上的电化学行为。方法 氧氟沙星在0.40 mol*L-1 KCl溶液中,用Pt/GC离子注入修饰电极进行伏安测定。结果 得到一良好的还原峰,峰电位Ep=-1.35 V(vs SCE)。峰电流与氧氟沙星的浓度在1.0×10-6-3.0×10-5 mol*L-1呈线性关系,相关系数γ=0.9992;检出限为5.0×10-7 mol*L-1。该法用于药片的测定,获得满意结果。用线性扫描和循环伏安法等电化学手段研究体系的电化学行为和电极反应机理。用俄歇电子能谱(AES)、光电子能谱(XPS)和扫描电子显微镜(SEM)等表面分析技术检测了注入电极表面的元素的组成、价态和深度分布,对离子注入电极的催化性质进行了探讨。结论 实验表明,体系属于两电子还原的不可逆过程。
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